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真空石墨爐 氫氧化鋰立式反應燒結真空爐 主要用于高溫下合成高性能陶瓷或鋰電正極材料。其立式結構適配柱狀物料，真空環境防止氧化，結合石墨加熱體實現快速升溫與均勻熱場。通過控制氣氛（如惰性氣體或微負壓），促進氫氧化鋰與其他原料的固相反應，推動材料致密化與晶粒生長，適用于制備高純度、細晶結構的優良功能材料。

觸摸屏氣氛爐 鋰電池材料燒結爐 小型回轉爐 主要適用于鋰電負極材料的包覆工藝及干燥煅燒、快速燒成三元正極材料、化工粉末等材料。

觸摸屏氣氛生物質碳化爐 水蒸汽活化爐 主要適用于活化樹脂、生物質炭化，生產木炭或活性炭、再生飽和活性炭等熱處理。

管式石英爐 石英管管式爐 電子封裝專用 石英管式爐因其出色的耐高溫性能和熱穩定性，在電子封裝過程中被用于高溫處理環節。例如，它可以用于半導體材料的擴散、氧化、退火等工藝。這些工藝對于提高半導體材料的性能和穩定性至關重要，而石英管式爐的高溫和穩定性確保了這些工藝能夠精確、有效地進行

鉭粉燒結爐 電加熱回轉窯 小型氣氛回轉爐 主要適用于粉體、顆粒在氣氛保護中的動態燒結與還原。動態燒結使物料更均勻、品質更高。